技術士

(応用理学部門)

坪井 秀夫

Tsuboi Hideo
出身地岡山県倉敷市
その他資格博士(工学)
専門分野プラズマ技術、真空技術、流体力学
趣味犬との散歩、古本屋と図書館めぐり、サッカー
E-mailh.tsuboi.ce@mopera.net

ご挨拶(モットー)

プラズマ技術や真空技術の知識・知見に基づいて、解り易く丁寧なコンサルティングを行います。貴社の問題や開発課題を、貴社のエンジニアと協力しながら解決します。高電圧技術や流体力学も専門分野です。

職歴(実績)

合同会社 坪井技術コンサルタント事務所 代表社員

2012年7月~現在

コンサルティング実績:真空技術およびプラズマ技術に関するコンサルティング、日本企業6社、韓国企業3社
2017年4月~現在

国立大学法人 東京農工大学工学部 非常勤講師、技術者倫理の講義を月8コマ受持つ
2017年4月~2019年3月

中央大学 電気電子情報通信工学科 兼任講師、高電圧現象の実験の授業を受持つ
2012年9月~2016年12月

中央大学 電気電子情報通信工学科 教育技術員、高電圧現象等の実験の授業を受持つ
2012年7月~現在

坪井技術士事務所 開設 所長、技術コンサルタント業を開始、2016年に上記法人も設立。

株式会社アルバック(旧 日本真空技術株式会社)

2005年7月~2012年6月

同社生産技術開発センター 主管、真空装置全般の生産技術の開発(生産性向上、コスト削減)、および同部署内の教育係。(真空装置全般の生産技術の開発に成功)
2002年4月~2005年6月

同社第1電子機器事業部 主管、プラズマ化学気相成長(PECVD)装置および Cat-CVD(Catalytic CVD)装置の開発および商品化業務(開発、商品化に成功、特許あり)
1999年9月~2002年3月

技術研究組合 超先端電子技術開発機構(ASET)へ出向、研究員、ドライエッチング技術および高効率エッチング技術の研究(有益な知見が得られた。学会発表、論文あり)
1993年4月~1999年8月

同社技術開発部、主事補および主事、磁気中性線放電(NLD)プラズマ源および誘導結合プラズマ(ICP)源の研究開発(NLDは電子部品用エッチング装置、ICPは半導体用スパッタリング装置搭載プリエッチング機構として開発・商品化に成功、特にICP搭載スパッタリング装置は量産化に成功した。成果の1部は特許、論文になる)
1988年1月~1993年3月

同社技術開発部および第4事業部、主任および主事補、電子サイクロトロン共鳴(ECR)イオン源、およびECRプラズマ源の研究開発(ECRイオン源は商品化に成功、特許あり)
1984年4月~1987年12月

同社第3事業部および技術開発部、技師、主任、イオン注入装置の設計・製造および開発

セミナー・社内研修の講師実績

  1. セミナー会社主催のセミナー「真空技術、プラズマ技術」(2017年~2019年、3回)
  2. 企業向け社内セミナー「プラズマ技術、高真空技術」(2016年、2回)
  3. 公益社団法人 日本技術士会 主催 関連セミナー:
    日本技術士会 応用理学部会、神奈川県支部、生体・環境, 保全交流会、食品技術士センターの主催するセミナー
    「真空技術、プラズマ技術など」(2013年~2019年、5回)
  4. 一般社団法人におけるセミナー「プラズマ技術、真空技術」(2017年、1回)
  5. NPO法人におけるセミナー「産業界におけるプラズマ技術」(2017年、1回)
  6. 韓国企業向けセミナー「プラズマ技術、イオン源技術」(2013年~2018年、4回)

対応可能なセミナー・社内研修(演題)

  1. プラズマ技術 [プラズマ生成と制御、プラズマプロセシング、高周波プラズマ、磁化プラズマ、CCP、ICP、マイクロ波プラズマ、ECR、NLDプラズマ、高電圧技術、高周波技術、マイクロ波技術、薄膜作成、ドライエッチング、イオン注入など]
  2. 真空技術 [真空の定義、単位、真空の作り方、真空の測り方、低真空と高真空、分子流と粘性流、真空と固体表面、真空装置設計・製造上の留意点、エレクトロニクス産業・半導体製造産業における真空技術、伝熱技術、流体力学など]

(税込)
書籍・特記事項
  • 公益社団法人 日本技術士会 会長表彰(2015年)